España da un paso estratégico en la industria tecnológica con Innofab, un innovador proyecto de semiconductores que se instalará en Cerdanyola del Vallès. Liderado por el Instituto Catalán de Nanociencia y Nanotecnología, su objetivo será el desarrollo de chips con materiales avanzados como el grafeno, marcando una diferencia frente a los semiconductores tradicionales dominados por Asia y Estados Unidos.
A diferencia de las gigantescas fábricas de TSMC o Intel, cuya construcción puede superar los 30.000 millones de euros, la inversión en Innofab será de 392 millones, un presupuesto modesto en comparación, pero enfocado en la investigación y desarrollo más que en la producción masiva.
Un factor clave en este proyecto es la cercanía con el sincrotrón Alba, una instalación que permitirá analizar a nivel atómico los materiales que se utilizarán en los semiconductores. «Este acelerador de partículas será esencial para evaluar las propiedades de los circuitos de vanguardia», señalan fuentes científicas.
El papel de Innofab no será fabricar chips en grandes volúmenes, sino desarrollar tecnologías avanzadas que luego serán explotadas en otras plantas comerciales. Esta característica explica el menor coste del proyecto en comparación con las grandes fábricas internacionales.
El sector de los semiconductores es una prioridad en Europa, que busca reducir su dependencia de Asia y fortalecer su capacidad tecnológica. La Comisión Europea ha impulsado el European Chips Act, que destina fondos para proyectos estratégicos como este.
Además, la ubicación cerca de la Universidad Autónoma de Barcelona facilitará la colaboración con investigadores y expertos, potenciando el ecosistema tecnológico en Cataluña. «Este tipo de proyectos nos permite liderar la innovación en materiales avanzados», aseguran fuentes del sector.
Con una combinación de investigación puntera y apoyo tecnológico, Innofab representa un salto adelante en la carrera por los semiconductores del futuro y refuerza la posición de España en la industria tecnológica global.